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詳細(xì)解析接近式光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及作用

更新時間:2022-05-16  |  點(diǎn)擊率:2994
  接近式光刻機(jī)在單室設(shè)計上可以滿足研發(fā)工作,與EVG的自動化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓,可配置為旋涂或噴涂和顯影。使用EVG先進(jìn)的OmniSpray涂層技術(shù),在3D結(jié)構(gòu)晶圓上實(shí)現(xiàn)光刻膠或聚合物的共形層,用于互連技術(shù)。這確保了高粘度光致光刻膠或聚合物的低材料消耗,同時改善了均勻性并防止了擴(kuò)散。
 

 

  它的分類:
  接近式光刻機(jī)一般根據(jù)操作的簡便性分為三種,手動、半自動、全自動
  1、手動:指的是對準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式,是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準(zhǔn),對準(zhǔn)精度可想而知不高了;
  2、半自動:指的是對準(zhǔn)可以通過電動軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧;
  3、自動: 指的是從基板的上載下載,曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制,自動光刻機(jī)主要是滿足工廠對于處理量的需要。
 
  接近式光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及作用:
  1、測量臺、曝光臺:承載硅片的工作臺,也就是本次所說的雙工作臺。
  2、光束矯正器:矯正光束入射方向,讓激光束盡量平行。
  3、能量控制器:控制最終照射到硅片上的能量,曝光不足或過足都會嚴(yán)重影響成像質(zhì)量。
  4、光束形狀設(shè)置:設(shè)置光束為圓型、環(huán)型等不同形狀,不同的光束狀態(tài)有不同的光學(xué)特性。
  5、遮光器:在不需要曝光的時候,阻止光束照射到硅片。
  6、能量探測器:檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求,并反饋給能量控制器進(jìn)行調(diào)整。
  7、掩模版:一塊在內(nèi)部刻著線路設(shè)計圖的玻璃板,貴的要數(shù)十萬美元。
  8、掩膜臺:承載掩模版運(yùn)動的設(shè)備,運(yùn)動控制精度是nm級的。
  9、物鏡:物鏡由20多塊鏡片組成,主要作用是把掩膜版上的電路圖按比例縮小,再被激光映射的硅片上,并且物鏡還要補(bǔ)償各種光學(xué)誤差。技術(shù)難度就在于物鏡的設(shè)計難度大,精度的要求高。
  10、硅片:用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸,尺寸越大,產(chǎn)率越高。題外話,由于硅片是圓的,所以需要在硅片上剪一個缺口來確認(rèn)硅片的坐標(biāo)系,根據(jù)缺口的形狀不同分為兩種,分別叫flat、notch。
  11、內(nèi)部封閉框架、減振器:將工作臺與外部環(huán)境隔離,保持水平,減少外界振動干擾,并維持穩(wěn)定的溫度、壓力。
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